之前的旧EUV光刻机，其NA=0.33，也称之为LOW NA EUV，用于制造7nm以下芯片，其分辨率是13nm，理论上可以制造7-2nm的芯片
后来ASML推出了HIGH NA EUV，也就是NA=0.55的EUV光刻机，NA从0.33提升了40%，变成了0.55，分辨率提升至了8nm，理论上可以用于2nm及后续芯片的制造。
而相比于NA=0.33的EUV，High na euv的价格贵了很多，从曾经的10亿元人民币，变成了30亿元。
所以台积电表示，2nm时肯定不买，甚至说1.4nm时，也应该也不会买，台积电会想办法进行多重曝光，用LOW NA EUV，也能制造出1.4nm芯片来。
为何台积电不买账？就是因为太贵了啊，30亿一台，台积电现有EUV光刻机上百台，如果全换成新的，需要3000多亿，这怎么玩？所以台积电要用旧的光刻机，想办法解决技术问题。
而一旦台积电不买单，ASML也就有点慌，因为大客户不要了，这光刻机卖给谁？
所以ASML自从HIGH NA EUV推出以来，就一直努力的找买家，比如之前卖给了英特尔几台，但英特尔也不要太多。
近日，ASML终于找到了大买家，那就是存储芯片厂商，比如SK海力士、三星。
ASML已经交付给了SK海力士一台Twinscan NXE:5200B，这是NA=0.55的高数值孔径 EUV 光刻系统，用于SK海力士制造DRAM HBM等芯片。
另外ASML也交付给了三星EXE:5000 High-NA EUV，不是用于2nm芯片制造，也是用于内存芯片，以及HBM这些。
ASML预计，接下来随着DRAM的高速发展，特别是HBM的高速发展，存储芯片厂商有更高的工艺要求，所以HIGH NA EUV可能会被存储芯片厂商，大规模采购。
那么ASML的业绩，就不会因为新的EUV光刻机没人买而受到影响了，反而会因为HIGH NA EUV的热销，而业绩大涨。
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